| Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 用于光學器件精密加工 |
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價格：2000000 元(人民幣) | 產地：日本 |
| 最少起訂量：1臺 | 發貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2020-12-04 16:16:31 | 瀏覽量：129 | |
伯東企業(上海)有限公司
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| 經營模式：代理商 | 公司類型：外商獨資 | |
| 所屬行業：真空泵 | 主要客戶： | |
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| 聯系人:羅 (先生) | 手機:15201951076 |
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Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 用于光學器件精密加工某光學器件制造商采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 應用于光學器件精密加工, 通過蝕刻工藝提高光學器件的聚酰亞胺薄膜的表面光潔度.
Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 技術參數
Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-J 的核心構件離子源采用的是伯東公司代理美國 考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:
采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 可以使 PV、RMS分別為1.347μm和340nm的粗糙表面, 通過蝕刻其粗糙度可降低至75nm和13nm; PV、RMS分別為61nm和8nm的表面, 其粗糙度可降低至9nm和1nm. 該刻蝕工藝能有效提高光學器件聚酰亞胺薄膜的表面光潔度.
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