CVD化學氣相沉積碳鍍膜機特點：

■ 采用多層隔板設計，批量處理模壓光學鏡片的碳鍍膜工藝，每爐可放數千個鏡片；

■ 智能化PLC程序升溫程序，真空程序，CVD進氣程序，操作簡單方便；

■ 優質干式真空泵，杜絕油液污染，可選擇國產干式泵和進口干式泵；

■ 智能化CVD進氣控制系統，適應于氮氣、乙炔/甲烷、氬氣、空氣的通入和混合；

■ 先進的密封系統，泄漏率低，長期使用穩定性高；

CVD化學氣相沉積碳鍍膜機詳細資料：

主要用途

■ 適用于模壓非球面光學玻璃鏡片的碳鍍膜工藝；

■ 適應于半導體行業晶圓表面薄膜生長；

■ 可用于陶瓷及單晶體表面沉積碳納米管工藝；

產品技術參數

產品型號： DH-30-700（大華）

使用溫度： 650℃；

使用氣氛： 氮氣、氬氣、空氣、二氧化碳、乙炔、甲烷、合氣體；

長期使用：400-700℃；

波 動 度： ±1℃；

顯示精度： 0.1℃；

均 勻 度： 容積30L；

進氣流量：三路MFC質量流量計控制，一路浮子流量計控制；

升降系統： 兩套伺服升降系統平臺；

控制系統：智能程序化PLC控制系統；

真空泵真空度： 極限真空1Pa；

腔內真空度：≤10Pa；

降溫要求：外置冷卻風機，降溫階段強制降溫；

整機功率： 18KW；

電 源 ： 380V, 50Hz；

水冷裝置：優質水冷機,PLC聯機控制

保護裝置： 過載、過流、過壓保護，接地，熱電偶異常報警，第二回路超溫報警保護裝置；冷卻水溫保護，壓力過載保護；

技術服務： 提供設備使用過程中的技術咨詢和支持，接到客戶故障通知3個工作時內立即響應。