國內外商標專利申請-計算機軟件著作權登記-版權登記-人才項目申報-高新企業認定-研發費用補貼-企業研發資助-科技創新小巨人-高新技術產品認定

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具體扶持方式

(一)集成電路企業研發多項目晶圓(MPW)流片的，按直接費用的80%給予補貼;

(二)集成電路設計企業購買光罩、研發全掩膜(Full MASK)流片的，按直接費用的40%給予補貼;

(三)集成電路設計企業研發工程片、試流片的，按加工費用的30%給予補貼。

設計企業購買光罩、研發全掩膜流片的直接費用，與研發工程片、試流片的加工費用難以(不能)進行區分的，統一按照30%給予補貼;各種工藝制程下研發工程片、試流片時，所需的晶圓(wafer)數量應該合理，最大不超過25片;晶圓廠收取的加工費用包括數量合理的晶圓(wafer)費用。

上述三項補貼，同一企業每年合計最高補貼600萬元。

申報條件

(一)申請企業的工商注冊地、稅務征管關系及統計關系在黃埔區、廣州開發區及其受托管理和下轄園區(以下簡稱本區)范圍內，有健全財務制度、具有獨立法人資格(或視同法人單位)、獨立核算的新一代信息技術企業。申請企業屬于新一代信息技術產業領域的集成電路及關鍵元器件產業;企業是否屬于政策扶持范圍，按照《集成電路企業認定條件》(見附件)進行認定。(二)申請的項目研發補貼對應的研發費用應在《實施意見》發布后且在政策有效期內產生。

(三)申請本項補貼的企業，應當設立研發項目的財務輔助賬，申請上級和本級財政資助總額不能超過企業項目自籌資金總額，超過部分不予支持。項目已申請上級和本級財政資助的，必須在申請表中明確并對超過企業項目自籌資金總額部分予以核減。

(四)同一法人代表企業、隸屬于同一集團企業、關聯企業、控股企業、母子公司等相關企業之間互相采購產品和服務不納入補貼范圍。

(五)近3年在申報和承擔國家、省、市和區等各級的科技計劃項目中無不良信用記錄

申報時間

(一)事項預審：申報單位登陸區政策兌現系統(http://zcdx.gdd.gov.cn)于10月14日-10月18日申請事項預審。

(二)提交紙質審批材料：10月21日-10月25日。