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              德國MicroResist納米壓印膠mr-I7000E、mr-I8000E納米壓印膠
              德國MicroResist納米壓印膠mr-I7000E、mr-I8000E納米壓印膠 價格:\u9762\u8bae  元(人民幣) 產地:本地
              最少起訂量:1 發貨地:本地至全國
              上架時間:2025-04-28 02:25:12 瀏覽量:7
              武漢邁可諾科技有限公司  
              經營模式:代理商 公司類型:私營有限責任公司
              所屬行業:實驗室設備/實驗室儀器 主要客戶:高校實驗室科研單位
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              聯系方式

              聯系人:趙經理 (先生) 手機:18221354817
              電話: 傳真:
              郵箱:tchiu@mycroinc.com 地址:武珞路628號亞洲貿易廣場

              詳細介紹

              產品參數
              品牌邁可諾
              發貨地武漢
              產地德國
              起訂量250ml
              可售賣地全國
              型號mr-I7000E

              概括

              德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。


              品牌

              產地

              型號

              特點


              Micro Resist

              德國

              mr-I 7000E系列

              Tg = 60℃

              優異的成膜質量

              由于高效的流動性和快速壓印從而縮短整個工藝時間

              壓印溫度125 - 150℃,壓印壓力20 - 50 bar

              Plasma刻蝕阻抗性能優于PMMA

              可獲得優于50 nm的分辨率(取決于模版分辨率)



              mr-I 8000E系列

              Tg = 115℃

              優異的成膜質量

              由于高效的流動性和快速壓印從而縮短整個工藝時間

              壓印溫度170 - 190℃,壓印壓力20 - 50 bar

              Plasma刻蝕阻抗性能優于PMMA

              可獲得優于50 nm的分辨率(取決于模版分辨率)



              mr-I PMMA 35k/75k系列

              Tg = 105℃

              優異的成膜質量

              低分子量從而實現高效的流動性

              壓印溫度150 - 180℃,壓印壓力50 bar

              可獲得優于50 nm的分辨率(取決于模版分辨率)



              mr-I T85系列

              Tg = 85℃

              優異的成膜質量

              壓印溫度140 - 170℃,壓印壓力大于5 bar

              Plasma刻蝕阻抗性能優于傳統的Novolak基光膠

              非極化熱塑性、具有優異的紫外和光學透過率,高化學穩定性

              可獲得優于50 nm的分辨率(取決于模版分辨率)



              mr-I 9000E系列

              熱固化之前Tg = 35℃

              優異的成膜質量
              接近等溫加工處理
              n?壓印溫度120℃
              n?脫模溫度100℃
              壓印時溫度從Tg到Tg,Cured增加并固化
              非常低的殘余膠層厚度低至5 nm
              Plasma刻蝕阻抗性能優于傳統的Novolak基光膠
              可獲得優于50 nm的分辨率(取決于模版分辨率)



              mr-NIL 6000系列

              光化學固化之前Tg = 40℃

              優質的固體光膠薄膜

              接近等溫加工處理:壓印、紫外曝光固化,壓印與脫模在同一溫度下進行

              非常低的殘余膠層厚度低至10 nm

              圖案轉移時高保真度

              Plasma刻蝕阻抗性能優于傳統的Novolak基光膠
              可獲得優于50 nm的分辨率(取決于模版分辨率)
              寬帶或i線曝光



              mr-UVCur06

              旋涂使用

              優質的成膜質量和膠厚均一性

              室溫加工處理

              由于快速地填充模版孔隙從而縮短工藝時間

              低劑量紫外曝光快速固化

              可獲得優于30 nm的分辨率(取決于模版分辨率)

              Plasma刻蝕高阻抗性能

              O2 Plasma刻蝕可無殘余去除

              寬帶或i線曝光

              邁可諾技術有限公司

              客服熱線:4008800298

              Q Q:3488598979

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