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              PLC企業資訊
                KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積 Cu-W 膜
                發布者:bdqysh  發布時間:2021-01-11 16:13:53

                為了得到最佳性能的磁控濺射 Cu-W 薄膜某大學新材料研究所采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射技術在基片上沉積 Cu-W .

                 

                KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

                射頻離子源型號

                RFICP380

                Discharge 陽極

                射頻 RFICP

                離子束流

                >1500 mA

                離子動能

                100-1200 V

                柵極直徑

                30 cm Φ

                離子束

                聚焦平行散射

                流量

                15-50 sccm

                通氣

                Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

                典型壓力

                < 0.5m Torr

                長度

                39 cm

                直徑

                59 cm

                中和器

                LFN 2000

                 

                上圖為磁控濺射系統工作示意圖

                 

                KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的因此伯東的KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 被客戶采用作為 4, 5 濺射離子源.

                 

                客戶材料:

                基片為φ25mmX4mm 的玻璃片靶純度 99.9%尺寸 φ76mmX4mm銅靶純度 99.99%尺寸 φ76mmX4mm工作氣體為純度 99.99% 的氬氣.

                 

                運行結果:

                 W 含量在11.1%Cu-W 薄膜具有最好的硬度和耐磨性.

                 

                伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

                 

                若您需要進一步的了解詳細信息或討論請參考以下聯絡方式:

                上海伯東羅先生                               臺灣伯東王女士
                T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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