Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 用于制作閃耀羅蘭光柵-PLC信息網

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Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 用于制作閃耀羅蘭光柵

發布者：bdqysh 發布時間：2020-12-23 16:03:37

長春某研究所在制作閃耀羅蘭光柵的研究中采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 10IBE,制造出的閃耀羅蘭光柵比其他工藝制造的光柵產品整體衍射效率高25%, 實現高衍射效率閃耀羅蘭光柵制作, 且工藝可控、穩定, 所制作的閃耀羅蘭光柵衍射效率高于市場同類產品.

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 技術參數:

基板尺寸	< Ф8 X 1wfr
樣品臺	直接冷卻（水冷）0-90 度旋轉
離子源	16cm 考夫曼離子源
均勻性	±5% for 4”Ф
硅片刻蝕率	20 nm/min
溫度	<100

Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 離子源是配伯東公司代理美國考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC160 技術參數：

離子源型號	離子源 KDC 160
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>650 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
中和器	燈絲

Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.

若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
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